번호 검색 :0 저자 :사이트 편집기 게시: 2022-10-31 원산지 :강화 된
히알루론산 생체 조직의 수분 보유력이 우수하여 스킨케어 제품에 널리 사용됩니다.
자외선(UV)은 햇빛에 노출될 때 다양한 유형의 피부 손상을 일으킬 수 있습니다.
본 논문에서는 UV에 의한 다양한 피부 손상에 대한 HA의 회복 효과를 자유 라디칼 소거, 항염증, 항지질 산화 및 항세포사멸 측면에서 검토하였다.애프터 썬 수리에서 HA의 성능에 대한 연구가 계속 심화됨에 따라 스킨 케어 제품에서 더 높은 적용 가치와 더 나은 개발 전망을 갖게 될 것입니다.
최근에는 자외선의 증가로 인해 자외선에 의한 피부 광손상으로 일광화상, 태닝, 다형성 광발진, 심지어 피부암 등 각종 피부질환의 발병률이 점차 증가하고 있습니다.
태양광에 포함된 UV는 파장이 각각 200~280nm, 280~320nm, 320~400nm인 단파자외선(UVC), 중파자외선(UVB), 장파자외선(UVA)의 3가지 대역으로 나눌 수 있습니다. .그 중 파장이 290~400nm인 자외선은 피부손상을 유발할 수 있으며, 자외선에 의한 피부 홍반의 수는 선량 의존적으로 증가한다.자외선 조사는 반응성 산소종(ROS)의 생성을 유도하고 핵 인자(NF-κB), 종양 괴사 인자(TNF-α), 인터루킨 인자(IL) 등과 같은 세포 염증 인자의 생성을 촉진할 수 있습니다.
히알루론산(HA)은 생물학적 피부와 근골격 조직의 세포간 매트릭스에서 일반적으로 발견되는 비인종 특이성 산성 뮤코다당류입니다.우수한 수분 보유력과 우수한 경피 흡수 특성을 가지고 있습니다.신체에는 관절 윤활, 혈관벽 투과성 조절, 상처 치유 촉진과 같은 중요한 생리 기능이 많이 있습니다.
자외선 조사는 피부 케라티노사이트가 ROS를 생성하게 할 수 있으며, 이는 주로 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼(O2•-)과 하이드록실 라디칼(•OH)로 나뉩니다.과도한 ROS는 리포솜, 단백질 및 DNA와 같은 피부 각질 세포의 구성 요소를 파괴할 수 있습니다.Hiramotoet al.쥐가 UVB 방사선에 노출되면 쥐의 ROS 수치가 증가하고 염증이 유발될 수 있음을 발견했습니다.
슈퍼옥사이드 음이온 자유 라디칼은 생물학적 거대분자와 반응하여 조직 손상을 일으킬 수 있는 자유 라디칼 전구체이며 ROS 형성에 중요한 역할을 합니다.히알루론산의 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼 소거 능력에 관한 연구 결과, 슈퍼옥사이드 음이온 라디칼에 대한 저분자량 히알루론산(LMWHA)의 소거 활성은 그 농도와 양의 상관관계가 있고 용량 의존적 관계가 있는 것으로 나타났습니다.클리어런스율은 87.12%였다.
하이드록실 자유 라디칼 및 그 파생물은 피부 각질 세포의 생물학적 거대분자를 상당히 파괴할 수 있는 매우 파괴적인 ROS입니다.HA의 질량 농도가 1~5mg/ml일 때 하이드록실 라디칼을 제거하는 능력은 용량 의존 관계를 보였습니다.이 연구는 69~1110μg/ml의 농도 범위에서 LMWHA의 하이드록실 라디칼 소거 활성이 HA보다 현저히 높다는 것을 발견했습니다.농도가 1110μg/ml일 때 하이드록실 라디칼에 대한 LMWHA 및 HA의 소거율은 각각 91.711% 및 79.536%였습니다.
피부 각질세포막의 지질은 세포의 정상적인 구조를 유지하고 세포 기능을 조절할 수 있는 반면, 각질세포 사이의 지질 부족은 피부 장벽 손상을 유발할 수 있습니다.UV 조사는 케라티노사이트의 신호 전달 과정을 어느 정도 방해하여 케라티노사이트와 그 지질의 세포막을 공격하고 과산화를 유도하는 ROS를 생성합니다.
지질 과산화와 같은 지질 과산화 최종 산물은 세포의 DNA 분자를 직간접적으로 손상시킬 수 있습니다.Sivaranjani 등의 연구에 따르면 아토피 피부염 환자의 정맥혈에서 malondialdehyde 수치가 건강한 대조군보다 높으며 지질 과산화가 아토피 피부염의 발병기전의 주요 인자인 것으로 나타났습니다.
표피의 케라티노사이트는 자외선에 노출되어 NF-κB 및 인터루킨 인자(interleukin-1β, interleukin-6, interleukin-8, IL-1β, IL-6, IL-8) 등의 과잉 생성을 유도합니다. 염증성 사이토카인은 분자 수준에서 다중 연결로부터 피부 염증을 유발합니다.연구에 따르면 HA는 자외선에 의해 생성되는 염증성 사이토카인의 발현을 억제할 수 있습니다.
UV 방사선에 장기간 노출된 후 인간 각질세포(HaCaT)에 의해 생성된 ROS는 세포사멸 관련 유전자를 조절하여 각질세포 DNA를 손상시킬 수 있습니다.세포에서 항산화 효소의 활성을 손상시킵니다.생물막을 손상시키고 케라티노사이트 아폽토시스를 유발합니다.
UVB 조사량이 30mJ/cm⊃2;이고 장기간 조사되면 HaCaT 세포의 다양한 생물학적 대사 기능이 손상되어 세포 사멸 및 괴사를 일으킬 수 있습니다.현재, UV 조사에 의해 유도된 피부 세포 아폽토시스에 대한 HA의 억제 효과에 대해 일부 연구가 진행되었다.
L929 인간 섬유아세포의 세포사멸을 평가하기 위해 키토산 및 젤라틴 시스템에 HA를 첨가하였다.결과는 HMWHA를 포함하는 키토산-젤라틴 혼합물이 세포의 CD44 복합체에 의해 억제될 수 있는 세포막을 통한 세포사멸을 억제할 수 있음을 보여주었습니다.신체 유도 반응 부위는 세포 부착 인자와 상호 작용하여 세포 사멸 비율을 감소시킵니다.
따라서 HA는 UV 조사에 의해 유도된 피부 세포의 세포 사멸에 대한 저항에 좋은 효과가 있습니다.
UV 노출은 주사의 병인에 중요한 요소입니다.Si Hongli et al.주사 및 UV 최소 홍반을 연구했으며, 연구 샘플의 모든 주사 환자는 태양 노출 시 질병을 악화시켰습니다.
여드름 패인 흉터 치료에서 CO⊃2; 프랙셔널 레이저와 결합된 HA 드레싱에 대한 연구는 HA가 콜라겐 발현을 촉진하여 상처 회복을 가속화함으로써 여드름 패인 흉터의 증상을 크게 개선할 수 있음을 보여줍니다.
자외선 조사는 피부 경표피 수분 손실(TEWL) 증가와 각질층 지질 함량의 변화로 이어져 피부 장벽 기능을 손상시킬 수 있습니다.그리고 최소 홍반 선량의 UVB 조사는 케라티노사이트에서 천연 보습 인자의 대사를 현저하게 억제하고 각질층의 수분 함량을 감소시켜 피부 장벽 기능을 손상시킬 수 있습니다.
현재 TEWL 값은 피부장벽의 기능을 판단하는 지표이다.TEWL 수치가 높아지면 피부가 건조해지고 각질이 생기고 민감해지기 쉬워 피부장벽이 손상된다.Li Jianghui는 아토피성 피부염이 있는 어린이의 피부 장벽 기능에 대한 HA 복구 생물막의 효과를 연구했습니다.그 결과, 처리 후 관찰군의 피지함량과 각질층 수분함량은 대조군에 비해 유의하게 낮았으며, TEWL 값은 두 집단의 어린이가 유의하게 낮았다.치료 전.Ma Ying et al.안면 레이저 수술 후 환자의 피부에 도포된 HA 스프레이의 TEWL 값의 변화를 연구했습니다.대조군과 관찰군의 TEWL 값은 수술 후 1일째에 비해 히알루론산 스프레이 사용 14일 후 유의하게 감소하였다.
결론적으로 히알루론산은 피부 각질층의 수분함량을 유의하게 개선할 수 있으며 TEWL 값이 유의미하게 감소하여 히알루론산이 효과적으로 피부장벽 기능을 개선할 수 있음을 시사한다.
자외선 조사는 표피 케라티노사이트에서 매트릭스 메탈로프로테이나제(MMP)의 함량을 증가시켜 콜라겐과 엘라스틴을 파괴하고 피부 노화를 유발합니다.
연구에 따르면 HA는 UV 조사에 의해 유도된 MMPs 함량 증가에 특정 개선 효과가 있는 것으로 나타났습니다.Li Yiwen은 UV 조사 후 쥐의 피부 광노화 증상을 개선하기 위해 HA를 연구했습니다.쥐를 블랭크 대조군, UV 조사 모델군 및 HA군으로 나누었다.10주차에 UV 조사를 중단하고 조사 전 HA 군의 쥐 등의 시험 부위에 HA를 도말하였다.그 결과 HA군이 UV 조사군보다 피부 탄력도가 유의하게 높았으며, MMP-1 역시 HA군이 UV 조사군보다 현저히 낮았다.
화장품 산업의 비약적인 발전과 피부 건강에 대한 소비자의 인식 향상으로 히알루론산은 화장품의 중요한 기능성 원료로서 HA의 다양한 기능성 활동이 지속적으로 개발되어 응용되고 있다.그 중 히알루론산 나트륨은 피부 염증, 지질 과산화 및 세포 사멸과 같은 UV 조사로 인한 일부 피부 문제를 크게 개선할 수 있습니다.
그러나 히알루론산도 어느 정도 염증을 유발할 수 있고, 이 측면에 대한 연구는 충분히 깊지 않기 때문에 특정 사용 조건에서 HA의 부작용 메커니즘은 여전히 탐구할 가치가 있습니다.또한 HA가 ROS를 제거하여 자가 분해를 통해 항산화 효과를 얻는 기전은 아직 명확하지 않으며, 이와 관련한 구체적인 기전은 주목할 만하다.이러한 메커니즘에 대한 심도 있는 탐구는 향후 HA 스킨 리페어 관련 제품 개발을 위한 보다 이론적 근거와 연구 방향을 제공할 것입니다.
